Abbildungsverzeichnis
1 Einführung in die Vakuumtechnik
- Abbildung 1.1
- Vakuum im Überblick
- Abbildung 1.2
- Definition des Totaldrucks
- Abbildung 1.3
- Definition des Partialdruckes
- Abbildung 1.4
- Mittlere freie Weglänge zwischen zwei Stößen
- Abbildung 1.5
- Teilchenzahldichte (rot, rechte y-Achse) und mittlere freie Weglänge (blau, linke y-Achse) für Stickstoff bei einer Temperatur von 273,15 K
- Abbildung 1.6
- Profile der unterschiedlichen Strömungsarten
- Abbildung 1.7
- Strömungsbereiche im Vakuum in Abhängigkeit von p · d
- Abbildung 1.8
- Leitwert eines runden glatten Rohrs in Abhängigkeit vom mittleren Druck in der Rohrleitung
- Abbildung 1.9
- Dampfdruckkurven verschiedener Stoffe
- Abbildung 1.10
- Typisches Restgasspektrum einer Turbomolekularpumpe
2 Auslegung
- Abbildung 2.1
- Leerlaufkompressionsverhältnis für Luft von Wälzkolbenpumpen
- Abbildung 2.2
- Saugvermögenskurve eines Wälzkolbenpumpstands mit Hepta 100 und Okta 500
- Abbildung 2.3
- Trocknungsanlage (schematisch)
- Abbildung 2.4
- Wälzkolbenpumpstand zur Dampfkondensation
- Abbildung 2.5
- Wälzkolbenpumpstand zur Dampfkondensation
- Abbildung 2.6
- Wälzkolbenpumpstand zur Trafotrocknung
- Abbildung 2.7
- Gasdurchsatz unterschiedlicher Turbopumpen bei hohen Prozessdrücken
- Abbildung 2.8
- Vakuumanlage mit Druck- und Durchsatzregelung
3 Mechanische Komponenten im Vakuum
- Abbildung 3.1
- Temperaturabhängigkeit des Elastizitätsmoduls austenitischer Edelstähle
- Abbildung 3.2
- Temperaturabhängigkeit der 0,2 % Dehngrenze austenitischer Edelstähle
- Abbildung 3.3
- De Long-Diagramm
- Abbildung 3.4
- Schliffbild einer Laserschweißnaht
- Abbildung 3.5
- Schliffbild einer WIG-Orbital-Schweißnaht
- Abbildung 3.6
- O-Ring Dichtungen in Rechtecknut, Trapeznut und in Ecklage
- Abbildung 3.7
- ISO-KF-Verbindung mit Zentrierring und Spannring
- Abbildung 3.8
- ISO-KF-Flansch montiert auf Grundplatte mit Zentrierring und Pratzen
- Abbildung 3.9
- ISO-K-Verbindung mit Zentrierring und Klammerschrauben
- Abbildung 3.10
- ISO-K-Flansch montiert auf Grundplatte mit Zentrierring und Pratzen
- Abbildung 3.11
- ISO-K-Flansch montiert auf Grundplatte mit O-Ring-Nut und Pratzen für Grundplatte mit Dichtnut
- Abbildung 3.12
- ISO-K-Flansch montiert auf Grundplatte mit Zentrierring, Überwurfflansch und Schrauben
- Abbildung 3.13
- ISO-F-Verbindung mit Zentrierring und Schrauben
- Abbildung 3.14
- ISO-K-Flansch mit Überwurfflansch montiert an ISO-K Flansch mit Zentrierring und Schrauben
- Abbildung 3.15
- CF-Verbindung mit Kupferflachdichtung und Schrauben
- Abbildung 3.16
- COF-Verbindung mit Kupferdrahtdichtung und Schrauben
- Abbildung 3.17
- EUV-Quellenkammer mit Kühlprofilen und wassergekühlten Flanschen
- Abbildung 3.18
- Weltraumsimulationskammer mit Kissenkühlung
- Abbildung 3.19
- CF-Schauglas mit Glas-Metall-Verschmelzung
- Abbildung 3.20
- Stromdurchführung mit keramisch isoliertem Drahtleiter aus Kupfer
- Abbildung 3.21
- Balggedichtetes Eckventil
- Abbildung 3.22
- Inline-Ventil mit elektropneumatischer Betätigung
- Abbildung 3.23
- UHV-Zugschieberventil
- Abbildung 3.24
- UHV-Ganzmetall-Gasdosierventil
- Abbildung 3.25
- Balggedichtete UHV-Drehdurchführung (Katzenschwanzprinzip)
- Abbildung 3.26
- Magnetisch gekoppelte UHV-Drehdurchführung
- Abbildung 3.27
- Elastomergedichtete Drehdurchführung
- Abbildung 3.28
- Z-Achsen-Präzisionsmanipulator
- Abbildung 3.29
- XY-Achsen-Präzisionsmanipulator
4 Vakuumerzeugung
- Abbildung 4.1
- Übersicht Vakuumpumpen
- Abbildung 4.2
- Funktionsprinzip der Drehschieberpumpe
- Abbildung 4.3
- Pfeiffer Vacuum Drehschieberpumpen
- Abbildung 4.4
- Zubehör für Drehschieberpumpen
- Abbildung 4.5
- Funktionsprinzip einer Membranvakuumpumpe
- Abbildung 4.6
- Funktionsprinzip der Schraubenpumpe
- Abbildung 4.7
- Rotoren der HeptaDry
- Abbildung 4.8
- HeptaDry mit Anschlüssen und Zubehör
- Abbildung 4.9
- Funktionsprinzip der mehrstufigen Wälzkolbenpumpe, luftgekühlt
- Abbildung 4.10
- Kondensation von Ammoniumhexafluorosilikat (NH4)2SIF6 in einer zu kalt gefahrenen Wälzkolbenpumpe
- Abbildung 4.11
- Funktionsprinzip der mehrstufigen Wälzkolbenpumpe, Prozesspumpe
- Abbildung 4.12
- ACP 120
- Abbildung 4.13
- A 100 L Rückseite mit Anschlüssen
- Abbildung 4.14
- A 203 H Querschnitt
- Abbildung 4.15
- A 1503 H Prozesspumpstand
- Abbildung 4.16
- Funktionsprinzip einer Wälzkolbenpumpe
- Abbildung 4.17
- Funktionsprinzip der gasgekühlten Wälzkolbenvakuumpumpe
- Abbildung 4.18
- Leerlaufkompressionsverhältnis für Luft von Wälzkolbenpumpen
- Abbildung 4.19
- Saugvermögen von Pumpständen mit Okta 2000 und verschiedenen Vorpumpen
- Abbildung 4.20
- Funktionsprinzip der Seitenkanalvakuumpumpe
- Abbildung 4.21
- Freiheitsgrade eines Turborotors
- Abbildung 4.22
- Funktionsprinzip der Turbomolekularpumpe
- Abbildung 4.23
- Spezifisches Saugvermögen von Turbopumpen
- Abbildung 4.24
- Saugvermögen als Funktion der relativen Molekülmasse
- Abbildung 4.25
- Saugvermögen als Funktion des Ansaugdrucks
- Abbildung 4.26
- Funktionsprinzip der Holweckstufe
- Abbildung 4.27
- Kompressionsverhältnisse von reinen Turbo- und Turbodragpumpen
- Abbildung 4.28
- Typisches UHV-Restgasspektrum (Turbopumpe)
- Abbildung 4.29
- Standard-Turbopumpe HiPace
- Abbildung 4.30
- Magnetgelagerte Turbopumpe ATH M
- Abbildung 4.31
- Zubehör für Turbopumpen am Beispiel der HiPace 300
5 Vakuummessgeräte
- Abbildung 5.1
- Aufbau eines Membranvakuummeters
- Abbildung 5.2
- Aufbau eines kapazitiven Membranvakuummeters
- Abbildung 5.3
- Funktionsweise des Pirani-Vakuummeters
- Abbildung 5.4
- Kennlinien des Pirani-Vakuummeters
- Abbildung 5.5
- Aufbau eines invertierenden Magnetrons
- Abbildung 5.6
- Funktionsweise des invertierenden Magnetrons
- Abbildung 5.7
- Aufbau einer Bayard-Alpert Messröhre
- Abbildung 5.8
- Druckmessbereiche und Messprinzipien
- Abbildung 5.9
- Anwendungskonzepte DigiLine
- Abbildung 5.10
- Anwendungskonzepte ActiveLine
- Abbildung 5.11
- Steuergerät TPG 300 für ModulLine Sensoren
6 Massenspektrometer und Restgasanalyse
- Abbildung 6.1
- Total- und Partialdruckmessung
- Abbildung 6.2
- Komponenten eines Massenspektrometers
- Abbildung 6.3
- Funktion des 180° Sektorfeld-Massenspektrometers
- Abbildung 6.4
- Sektorfeldmassenspektrometer: (a) Ionenquelle, (b) Detektor
- Abbildung 6.5
- Prinzip des Quadrupol-Massenspektrometers
- Abbildung 6.6
- Stabilitätsdiagramm eines Quadrupolfilters
- Abbildung 6.6b
- Schnitt durch eine Axialionenquelle
- Abbildung 6.7
- Ionisierung als Funktion der Elektronenenergie
- Abbildung 6.8
- Bruchstückionenverteilung von CO2
- Abbildung 6.9
- Gitterionenquelle
- Abbildung 6.10
- Diskriminierung von EID-Ionen
- Abbildung 6.11
- Cross-Beam-Ionenquelle
- Abbildung 6.12
- Gasdichte Axialionenquelle
- Abbildung 6.13
- SPM-Ionenquelle
- Abbildung 6.14
- PrismaPlus-Ionenquellen
- Abbildung 6.15
- Funktionsweise des Faraday-Cup
- Abbildung 6.16
- Sekundärelektronenvervielfacher
- Abbildung 6.17
- Funktionsweise des kontinuierlichen C-SEM
- Abbildung 6.18
- QMS mit Gaseinlasssystem und Cross-Beam-Ionenquelle
- Abbildung 6.19
- Differentiell gepumptes QMS mit verschiedenen Gaseinlässen
- Abbildung 6.20
- Potentialverlauf in einer elektrisch hochgelegten Ionenquelle
- Abbildung 6.21
- 90° off axis SEM
7 Lecksuche
- Abbildung 7.1
- Blasenlecktest bei einem Fahrradschlauch
- Abbildung 7.2
- Funktion eines Sektorfeld-Massenspektrometers
- Abbildung 7.3
- Generelles Fließschema eines Lecksuchgeräts
- Abbildung 7.4
- Funktionsprinzip Quarzfenstersensor
- Abbildung 7.5
- Vakuumschema des Quarzfenster-Lecksuchers MiniTest an einer Anlage
- Abbildung 7.6
- Lokale Lecksuche mit der Schnüffel- und Vakuummethode
- Abbildung 7.7
- Integrale Lecksuche mit der Vakuummethode
- Abbildung 7.8
- Integrale Lecksuche mit der Schnüffelhüllenmethode
- Abbildung 7.9
- Massenspektrum eines Rezipienten mit Luftleck
- Abbildung 7.10
- Dichtheitsprüfanlage für Kältemittelschläuche
- Abbildung 7.11
- Helium-Rückgewinnungsanlage
8 Lösungen zum Kontaminationsmanagement
- Abbildung 8.1
- Mooresches Gesetz (dokumentiert durch die Anzahl an Transistoren in Intel-Mikroprozessoren)
- Abbildung 8.2
- Wafer-Handling mittels Kassette (a) und FOUP (b)
- Abbildung 8.3
- Diamantähnliche Kristallstruktur von Silicium
- Abbildung 8.4
- Klassifizierung der Airborne Molecular Contamination AMC
- Abbildung 8.5
- AMC-Quellen in FOUPs
- Abbildung 8.6
- Durch Luftströmungen übertragene polare (b) und nichtpolare (a) Moleküle
- Abbildung 8.7
- Gas-Festkörper-Interaktion auf einer Oberfläche
- Abbildung 8.8
- Oberflächenlagen
- Abbildung 8.9
- Oberfläche nach dem Ätzen
- Abbildung 8.10
- Kristallwachstum an der Kante einer Struktur
- Abbildung 8.11
- Prozesszyklus Pod Regenerator
