8.5 Portfolioüberblick

Das Dosiskonzept führt zu Maßnahmen, mit denen die Erzeugung von Defekten durch AMC vermieden werden kann:

• Druck verringern
• Temperatur erhöhen
• Einwirkzeit reduzieren

Da die Wartezeit bei der Produktion erforderlich ist, um die Flexibilität bei der Waferbearbeitung zu gewährleisten, ist ein Ausgasen der FOUPs und Wafer in einem Vakuum bei hohen Temperaturen die richtige Maßnahme, um Verunreinigungen zu reduzieren und die Ausbeute zu erhöhen. Zur Kontrolle der AMC, ist es wichtig, sie in den FOUPs zu überwachen, und da sie von dynamischen Prozessen bestimmt wird, muss die Überwachung in der Produktionsumgebung erfolgen. Pfeiffer Vacuum bietet den APA 302 Pod Analyser als geeignetes Tool zur Analyse der AMC. Der APA 302 liefert innerhalb von zwei Minuten Informationen über den Gesamtgehalt an Säuren, Aminen, flüchtigen organischen Verbindungen und Wasserdampf im ppbv-Nachweisbereich. Die Messungen können im leeren oder mit Wafern bestückten FOUP erfolgen.

Nach der AMC-Analyse und der Bestimmung der Auswirkung auf die Ausbeute sind die entsprechenden Maßnahmen zu ergreifen, um die Situation zu verbessern. Zu diesem Zweck bietet Pfeiffer Vacuum den APR 4300 Pod Regenerator als effizientes System zur Dekontaminierung von bis zu vier FOUPs in einem einzigen Durchgang. Dieses patentierte Gerät basiert auf den Erkenntnissen der physikalischen und chemischen Gas-Oberflächen-Interaktion, die in diesem Kapitel beschrieben werden. Das Regeneriergerät kommt nach einem Vakuumprozess zum Einsatz, wie in Abbildung 8.11 gezeigt. Nach einem ersten Vakuumkonditionierschritt von etwa fünf Minuten ist der Arbeitsdruck erreicht. Der nachfolgende Spülvorgang desorbiert die AMC, die sich auf den Oberflächen aufgebaut haben, und im letzten Schritt wird der FOUP auf Atmosphärendruck gebracht.

Abbildung 8.11: Prozesszyklus Pod Regenerator

Der APR 4300 Pod Regenerator hat sich als effizientes System mit Erhöhungen der Ausbeute bis zu 7 % bewährt. Die Halbleiterproduktion steht vor neuen Herausforderungen und das Maß der luftgetragenen molekularen Verunreinigungen gewinnt zunehmend an Bedeutung. Deshalb müssen Alternativen zum Transport unter Atmosphärendruck zwischen den kritischen Produktionsstufen entwickelt werden. Vakuumtechniken werden bei zukünftigen Lösungen sicher eine größere Rolle spielen.