4.6.5 苛刻化学工艺

工艺的持续发展，特别是在半导体和太阳行业中，对所用真 空泵不断地提出新的要求。基于多级罗茨泵的可靠技术，普 发真空凭借其 H 系列为这些行业领域中的苛刻工艺提供完美 的解决方案。与先前泵解决方案相比，过程压力下的气体流 量、 粒子耐受性和耐冷凝性已显著提高。

与 P(用于一般工艺)系列泵一样，H 系列(用于苛刻工 艺)泵配备了温度控制和惰性气体冲洗系统。但是，用于优 化工艺调节的参数范围比 P 系列泵更广。

图 4.14: 203 H 的横截面图

该泵系列是基于 A 203 H 大干式真空泵。我们已采用了该系 列的另外三个型号并辅以罗茨泵用于过程压力范围内提高了 的抽速和气体流量。由于使用了特殊材料，这些泵的腐蚀性 气体设备使其还可使用强氧化剂，如 NF₃。该泵宽泛的温度 范围使其能够适应各种不同的工艺，如低温下的钨沉积或高 温下的氮化物沉积。高效的电机产生低压力下的能源节约， 并因其高扭矩，在泵停机后能提供良好的再启动性能。

图 4.15: 1503 H 工艺泵组

得益于它们相同的接口和相同的连接，A3H 系列型号可与 P 系列泵理想兼容。这意味着，如果现有生产设备上发生工艺 改变，通过更换泵，使用最小的安装工作就可获得优化的泵 解决方案。

使用第三级罗茨辅助 A 1803 H 型号，可提供紧凑、极其强 大的抽气系统，具有最大抽速，适合于 CVD 工艺。AD 73 KH 在干式真空泵上采用变频控制的罗茨泵，罗茨泵在其本 身的框架内具有额定抽速 4,500 m³ · h^-1 。由于模块化结构，安装很容易，且系统中的各个泵可单独取出，并在维修工作 进行的情况下进行保养。进气侧的罗茨泵变频器允许在宽泛 的气体流量范围对工艺参数进行调整，并允许各种不同的过 程气体。

普发真空不断关注行业各个领域中工艺的动态发展，并在未 来将继续提供优化的泵解决方案以满足这些需求。在第 8 章“ 污染管理解决方案”中给出了初步概述。