8.5 产品概览

剂量概念导致必须采取措施，避免 AMC 产生的缺陷：

• 减小压力
• 增加温度
• 降低接触时间

由于等待时间是保证晶圆加工灵活性所必需的制造要求，所 以减少缺陷的正确方法是在升高的温度下使 FOUP 和晶圆在 真空中出气，从而增加产量。为获得 AMC 的控制，关键是 要在 FOUP 内部对其进行监控，而且，由于受到动态过程的 支配，所以必须在生产环节中进行监控。普发真空提供了 APA 302 Pod 分析仪作为 AMC 分析的适宜工具。 APA 302 在两分钟内于 ppbv 级别上提供有关总酸量、 总胺量、挥发性 有机化合物和水蒸气总量的信息。 可以使用空 FOUP 或载有 晶圆的 FOUP 完成测量。

一旦已分析 AMC 且已确定其对产量的影响，则必须采取适 当的措施来改善情况。为此，普发真空提供了 APR 4300 Pod再生器 再生器作为在单次运行中净化多达四个 FOUP 的有效工 具。 这项专利机器是基于本章所提出的物理和化学气体表面 相互作用的见解。Pod 分析仪遵循图 8.11 所描述的真空工 艺。 在大约五分钟的第一个真空调节步骤中，达到了工作压 力。 随后的净化工艺解吸在表面形成的 AMC，在最后一个步 骤中， 从晶圆传送盒返回至大气压。

图 8.11: Pod 再生器流程周期

APR 4300 Pod 再生器通过将产量提高 7% 已经证明了其效 率。 半导体制造将出现新的挑战，而且，空气分子污染的剂 量将变得越来越重要。 因此，必须对关键生产步骤之间气压 传输的替代方式进行开发。 在未来解决方案中，真空将确实 发挥越来越大的作用。